半导体切割研磨废水8M3/小时

■目的去除物及去除效果对比列表：

项目	PH	COD mg/l	单晶硅为主的 SS	SDI
原水	5-8	<60	<200	>5
排放标准 DF过滤后	6-9 6-9	<50 <30	<30 <1	>5 <3

 

■一周内膜通量分布示意图